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微弧离子镀设备研制及镀膜工艺开发

【研究领域】:化工新材料

【成果概述】:微弧离子镀(Micro-arc Ion Plating,MAIP)技术有机融合了多弧离子镀和磁控溅射离子镀的优点,主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。

【技术状态】:产品规模化应用

【先进程度】:

【技术特点】:微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点,是各种精密制品理想的表面改性工艺。

【技术指标】:

【应用概况】:以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。

【专利状态】:

【合作方式】:技术开发、技术服务、技术咨询

【预期效益】:

【项目负责人】:蒋百铃

【评价与获奖】:

【联系方式】:吕凤兰,殷绚,025-58139211,lvflnjut@163.com