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分子筛膜晶间孔道的修补方法

【研究领域】:膜材料与膜技术

【专利号】:CN200910235020.6

【专利类型】:发明

【发明(设计)人】:[顾学红, 洪周, 张春, 徐南平]

【申请(专利权)人】:南京工业大学

【申请日】:2009.11.16

【公告日】:2012.08.29

本发明涉及一种分子筛膜晶间孔道的修补方法。分子筛膜装入渗透器内并将器内分隔膜侧和支撑体侧两室;将硅烷泵入膜侧并不断地从膜面流过;同时,将去离子水泵入支撑体侧室并不断地从支撑体表面流过;持续0.5~3h,停泵,取出分子筛膜,烘干后,在马弗炉中以1~2℃/min升温到450~500℃,烧结4~5h,以1~2℃/min降温冷却至室温即可。本发明利用分子筛膜膜侧室的有机硅烷修饰液通过晶间孔道与滞留在孔道上的水发生水解反应,产生SiO2基团,进而有效减小分子筛膜晶间孔道。本方法修饰后的分子筛膜的分离选择性可得到显著增加,成品率高、重复性好。