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一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层

【研究领域】:化工新材料

【专利号】:CN201320458277.X

【专利类型】:实用新型

【发明(设计)人】:[黄新明, 周绪成, 尹长浩, 钟根香, 明亮, 周海萍]

【申请(专利权)人】:东海晶澳太阳能科技有限公司, 南京工业大学

【申请日】:2013.07.30

【公告日】:2014.03.19

本实用新型新型公开了一种用于生产高效多晶硅铸锭的石英坩埚涂层,由下层氮化硅涂层、中间层形核功能层和上层氮化硅涂层组成,所述下层氮化硅涂层设置在坩埚本体的底部,所述中间层形核功能层设置在下层氮化硅涂层上,所述上层氮化硅涂层设置在中间层形核功能层上,所述中间层形核功能层上分布有均匀或不均匀的孔洞或裂缝。本实用新型的有益效果是:(1)涂层表面分布大量孔洞或者裂缝,该结构可有效的降低形核所需的形核功,促进非均匀形核的能力,从而快速形核,生长的晶粒尺寸较小、大小均匀,晶体的缺陷密度低;(2)涂层使用高纯度原料制成,生产的硅锭底部红区短,产出率高。