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一种有机无机杂化材料修饰电极及其制备方法

【研究领域】:化工新材料

【专利号】:CN201210572318.8

【专利类型】:发明

【发明(设计)人】:[金万勤, 石磊, 储震宇, 任小明]

【申请(专利权)人】:南京工业大学

【申请日】:2012.12.25

【公告日】:2014.10.29

本发明涉及一种有机无机杂化材料修饰电极及其制备方法,该修饰电极由基底电极和有机无机杂化薄膜组成,其中基底电极为贵金属电极,优选金、银、钯或铂;杂化薄膜材料的化学组成为X(en)3Ag2Y4,其中X=Ni、Co、Zn、Cd、Fe或Cu;en为乙二胺;Y=I、Cl或Br,薄膜厚度在500nm-100μm之间。该修饰电极的制备包括以下步骤:对基底电极进行表面预处理;将预处理后的电极浸泡于表面改性溶液中;配制杂化材料母液,并对该母液进行热处理;过滤母液,将修饰后的电极竖直插到滤液中,静置若干时间,得到杂化材料修饰电极。该修饰电极制备过程简便可控,可同时制备多只电极,具有良好的应用前景。