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一种斜角入射微纳米薄膜沉积系统

【研究领域】:膜材料与膜技术

【专利号】:CN201410015993.X

【专利类型】:发明

【发明(设计)人】:[殷晨波, 唐光大, 徐海涵, 杨柳, 吴礼峰]

【申请(专利权)人】:南京工业大学

【申请日】:2014.01.14

【公告日】:2015.09.16

本发明提供了一种斜角入射沉积系统,包括圆柱状的腔体,腔体的上方设有顶盖,腔体内由下至上依次设有电子束蒸发器、环形液态氮存储装置以及样品操作装置;所述电子束蒸发器由腔体外伸入腔体内,电子束蒸发器位于腔体内的端部上设置蒸发源材料;所述环形液态氮存储装置用于冷却操作装置,环形液态氮存储装置上设有液氮进管和液氮出管,液氮进管和液氮出管分别延伸出顶盖;环形液态氮存储装置中部设有气动快门,用于控制蒸发源材料与样品操作装置之间的通路。本发明两个轴向旋转运动以及沉积高度的调整,形成不同沉积角度,得到了多种形态的微纳米薄膜结构,很好解决了光学和电子刻蚀形成微纳米薄膜费用高、适用材料有限、制作时间较长的缺点。