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钯和铌掺杂的有机无机杂化SiO2膜的制备方法

【研究领域】:膜材料与膜技术

【专利号】:CN201310742711.1

【专利类型】:发明

【发明(设计)人】:[漆虹, 陈加伟]

【申请(专利权)人】:南京工业大学

【申请日】:2013.12.30

【公告日】:2015.12.30

本发明涉及一种钯和铌掺杂的有机无机杂化SiO2膜的制备方法,以硅氧烷为前驱体,在酸催化条件下水解缩合,并向其中分步加入Nb(OC4H9)5和钯盐的溶液,合成Pd,Nb-hybrid?SiO2溶胶,并在片状载体上涂膜、干燥后,在H2和惰性气体的混合气氛中焙烧得到钯和铌掺杂的有机无机杂化SiO2膜。钯和铌对有机无机杂化SiO2网络结构的协同作用,实现了该膜对H2的高渗透率,及H2/CO2、H2/N2和H2/CH4等气体的高效分离。该膜在H2的制备、提纯,CO2捕集,CH4纯化等工业化应用中将具有广泛的应用前景。