【研究领域】：膜材料与膜技术

【专利号】：CN201310713960.8

【专利类型】：发明

【发明(设计)人】：[黄彦, 魏浩, 俞健, 魏磊, 丁维华, 黎月华, 黄韬]

【申请(专利权)人】：南京工业大学

【申请日】：2013.12.20

【公告日】：2016.10.26

本发明涉及一种钯膜的制备方法，其特征在于：采用化学镀法在多孔基体表面沉积一层钯或钯合金膜，将制备的钯膜在一定正压的惰性气氛中烧结，促使微纳尺度钯晶粒重排，使处于晶界相交处的闭孔及晶粒内部孤立的微孔致密，再通过化学修补对剩余的缺陷进行填补。该法可制备出膜层致密、均匀，使用寿命长，透氢性高的钯膜。