【研究领域】：化工新材料

【专利号】：CN201410741019.1

【专利类型】：发明

【发明(设计)人】：[胡秀兰, 黄惠洪]

【申请(专利权)人】：南京工业大学

【申请日】：2015.01.06

【公告日】：2017.01.25

本发明公开一种具有介孔结构的四氧化三钴纳米片的制备方法。在不添加任何表面活性剂和模板的条件下，首先通过简单温和的溶液法在低温下合成纳米片状结构的前驱体，然后经热分解得到介孔结构的四氧化三钴纳米片。通过该方法制得的Co3O4纳米片比表面积大，且具有良好的分散性。