【研究领域】：化工新材料

【专利号】：CN201410782852.0

【专利类型】：发明

【发明(设计)人】：[章伟, 李涛, 秦薇薇, 仇俊文, 马先俊, 黄胜明]

【申请(专利权)人】：南京工业大学, 南京益得冠电子科技有限公司

【申请日】：2014.12.16

【公告日】：2017.01.18

本发明公开了一种纳米结构的侧壁成形制造方法，该方法可以人工制造任意尺寸和小于5nm的纳米点和线结构。低价的纳微米结构的制造方法：与传统的制造方法相比，“侧壁纳米结构成形”的方法，无需依赖昂贵的电子束曝光设备和高分辨率的深紫外光刻设备，做到低价的纳米结构产生方法，可广泛应用于纳米基础科学和应用研究和工业化生产中对纳微米结构制造的需求。宽的纳微米结构制造范围：因为侧壁纳米结构成形方法制备的纳微米结构取决于沉积的侧壁硬掩膜材料的厚度，这样利用这种方法可以制造任意尺寸的纳微米结构。