【研究领域】：膜材料与膜技术

【专利号】：CN201510598020.8

【专利类型】：发明

【发明(设计)人】：[黄彦, 金小贤, 俞健, 蔡毅, 杨佳辉, 李国峰, 巩栋

【申请(专利权)人】：南京工业大学

【申请日】：2015.09.15

【公告日】：2017.10.13

一种钯或钯合金膜组件的制备方法，其特征在于化学镀过程在组件内进行。将活化预镀处理过的多孔基体材料密封于组件中，组件与基体活化侧组成封闭的镀膜腔体，在化学镀过程中，通过泵或压缩气体对镀膜侧加压，促使金属钯优先在基体孔口沉积、成膜，高压也可迫使已沉积在基体表面的钯颗粒向缺陷处填补，起到修补作用。此外，在密封处理前，对密封材料与镀液接触的一侧进行活化预镀处理，化学镀反应可在密封材料的缝隙中发生，增强了组件的密封性能。本方法制造的组件集镀膜、密封、测试为一体，可在低成本、大孔径的普通基体材料上制得膜层薄且均匀的致密钯膜，对降低钯膜制备成本及超高纯氢气的生产具有重要意义。